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LFM系列 1200真空气氛箱式炉 LFM-1200C-1 VC

文字:[大][中][小] 2021-3-23    浏览次数:299    



主要特点:该真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺,也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料,具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点,设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或其他真空机组, 非常适合于试验和小批量生产之用。

该设备为密封式是加热腔体,确保设备可在真空条件下,或者一些特殊气氛条件下使用,相比普通箱式炉,使用环境更灵活,使用范围更广泛。

技术参数:

设备型号

LFM1200C1VC

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

炉膛有效尺寸

100*100*100mm(W×H×D)

炉膛材料

氧化铝、高铝纤维制品

热电偶类型

 K型热热偶

控温精度

±1℃, 30段可编程控温,PID参数自整定,触摸屏控制

加热元件

电阻丝

冷态极限真空

≤100-400Pa

外观处理

白色

电源

单相,220±10%,50HZ

最大加热功率

 1Kw  



 

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